采用脈沖激光燒蝕氮化碳薄膜靶，在室溫至450℃基片溫度下制備了CNx薄膜。利用掃描電鏡、X射線衍射儀、X射線光電子譜儀和拉曼光譜儀等對(duì)薄膜的形貌、結(jié)晶性和結(jié)合鍵狀態(tài)進(jìn)行了表征。采用球-盤(pán)式摩擦儀測(cè)試了薄膜在大氣中(相對(duì)濕度60%~62%)的摩擦磨損性能。結(jié)果表明：所得CNx薄膜均呈非晶狀態(tài)，表面形貌與基片溫度無(wú)關(guān)。隨著基片溫度的升高，薄膜含氮量由原子分?jǐn)?shù)25.3%下降至21.2%，膜中sp3C-C鍵的含量增加且在300℃時(shí)達(dá)到最高，N-sp3C鍵的含量下降且在150℃ 時(shí)最高;拉曼譜中ID/IG比值上升，G峰藍(lán)移且半高寬下降，薄膜結(jié)構(gòu)有序度升高-石墨化程度增加; 薄膜的摩擦系數(shù)從0.23下降至0.13，磨損率從3.0× 10^-15m³N^-1m^-1上升至9.3×10^-15m³N^-1m^-1。

　　A. Y. Liu和M. L. Cohen等從理論上預(yù)言了beta-C₃N₄ 晶體具有相當(dāng)高的體彈性模量，甚至高于金剛石，是新一代的超硬材料。到目前為止，超硬氮化碳晶體的合成未獲得真正意義上的成功，但以非晶體形式存在的氮化碳(a-CNx)也表現(xiàn)出了良好的耐磨性能和固體潤(rùn)滑效果。近年來(lái)，在一定條件下獲得的CNx 薄膜已經(jīng)嘗試替代類(lèi)金剛石(DLC)膜，被應(yīng)用于硬盤(pán)，讀寫(xiě)磁頭以及半導(dǎo)體器件。

　　CNx薄膜的性能與其制備技術(shù)及工藝密切相關(guān)，在本質(zhì)上取決于薄膜的內(nèi)部構(gòu)造，如晶體類(lèi)型、含氮量以及處于多種雜化狀態(tài)的C原子與N原子之間的價(jià)鍵狀態(tài)(形成sp2C-N、s3C-N和sp1C-N鍵)。隨著沉積技術(shù)的不斷發(fā)展，脈沖激光沉積(PLD)技術(shù)在制備碳基薄膜材料方面得到了長(zhǎng)足的發(fā)展。已有研究表明，在PLD 過(guò)程中輔以射頻放電、選用含C-N 鍵的材料為靶材等手段改變PLD羽輝的化學(xué)環(huán)境，能夠改善CNx薄膜的含氮量和sp2C、sp3C雜化鍵的相對(duì)比例。作者在前期運(yùn)用脈沖激光燒蝕CNx靶沉積CNx薄膜的工作中也觀察到薄膜含氮量的提升和價(jià)鍵結(jié)構(gòu)改變。本文在此基礎(chǔ)上開(kāi)展了不同基片溫度下燒蝕CNx靶制備CNx薄膜試驗(yàn)，采用X射線衍線(XRD)、X射線光電子譜(XPS)和Raman光譜等對(duì)CNx薄膜的微觀組織及價(jià)鍵結(jié)構(gòu)進(jìn)行了系統(tǒng)分析，并對(duì)所得薄膜的摩擦學(xué)特性進(jìn)行評(píng)價(jià)，以闡明不同溫度條件下該類(lèi)CNx薄膜的組織結(jié)構(gòu)、原子價(jià)鍵狀態(tài)和耐磨性能。

　　通過(guò)對(duì)不同基片溫度下CNx薄膜的成分、組織結(jié)構(gòu)、結(jié)合鍵狀態(tài)和摩擦學(xué)特性的分析，得到如下結(jié)論：

　　采用脈沖激光燒蝕CNx靶制備CNx可實(shí)現(xiàn)薄膜含氮量的提升，薄膜的沉積速率是傳統(tǒng)PLD的5~ 6倍。在室溫至450℃范圍內(nèi)，薄膜呈非晶態(tài)且表面形貌與基片溫度不相關(guān)。隨著基片溫度的升高，薄膜的含氮量降低，石墨化程度增加。最利于形成sp3C-C鍵和N-sp3C鍵的溫度分別是300℃和150℃。基片溫度越高，薄膜的摩擦系數(shù)越低，但耐磨性越差。