固定流導法校準裝置

       固定流導法校準真空漏孔的裝置由固定流導法流量計、校準系統和被校漏孔三部分組成，如圖1所示。固定流導法流量計如圖1左邊所示，主要由固定流導小孔、穩壓室、電容薄膜規、氣瓶、閥門以及抽氣機組等組成，可根據需要向校準系統提供已知流量的氣體。校準系統如圖1中間所示，主要由質譜分析室、四極質譜計、超高真空電離規和抽氣機組組成。被校漏孔如圖1右邊所示，主要由自帶氣室型真空漏孔（如薄膜滲氦型漏孔）、通道型真空漏孔、穩壓室、氣瓶和閥門等組成。

真空漏孔校準原理

流量計測量原理

氣體通過固定流導小孔的流量用式(1)計算

圖1 固定流導法校準真空漏孔裝置

      式中C為一定入口壓力下，特定氣體所對應小孔的流導值，m3/s；p、pI分別為小孔入口和出口的氣體壓力，Pa；Qs 為通過小孔的氣體流量，Pam3/s。流量計在實際校準過程中，P 遠遠大于P’，且P的變化量小于0.1%時，式（1）簡化為式（2）

Qs=Cp

     式中壓力p用電容薄膜規測量；流導C用擬合公式（5）計算；固定流導法流量計所提供的氣體流量Qs用式（2）計算得到。

真空漏孔校準方法

       當裝置正常運行，且四極質譜計正常工作一定時間之后，關閉所有的進氣閥門，用四極質譜計測量質譜分析室中氦氣分壓力對應系統本底離子流I0。然后打開被校真空漏孔對應的氣體引入閥，讓被校漏孔流出的氣體流入質譜分析室，在質譜分析室中建立起一動態平衡分壓力，用四極質譜計測量對應示漏氣體的離子流I1。關閉被校漏孔對應的氣體引入閥。關閉閥門（4），打開閥門（3），緩慢調節穩壓室（7）中的氣體壓力，讓標準氣體流量流入質譜分析室。當標準氣體流量產生的離子流信號Is與被校漏孔產生的離子流信號Il 相同或非常接近時，停止調節穩壓室中的氣體壓力，待氣體壓力穩定后，用四極質譜計測量對應氣體離子流Is。被校漏孔的漏率用式（3）計算

        式中Ql為被校漏孔的漏率，Pam3/s；Il為被校漏孔漏率對應的離子流，A；Is為標準氣體流量對應的離子流，A；I0為系統本底離子流，A；Qs為流量計所提供的標準流量，Pam3/s。