渦旋理論是法國(guó)人 Leno Creux 于1905年以可逆轉(zhuǎn)的渦旋膨脹機(jī)為題申請(qǐng)了美國(guó)專利。但由于當(dāng)時(shí)的加工制造水平有限，渦旋盤渦旋齒型線的加工精度無法得到保證，渦旋機(jī)械在很長(zhǎng)的一段時(shí)間內(nèi)沒有被制造出來。20 世紀(jì) 70 年代開始，能源危機(jī)的加劇和高精度數(shù)控機(jī)床的出現(xiàn),為渦旋機(jī)械的發(fā)展帶來了機(jī)遇,1973 年美國(guó) Arthur D. Little(簡(jiǎn)稱 A.D.L)公司首次提出了渦旋氮?dú)鈮嚎s機(jī)的研究報(bào)告，展現(xiàn)出渦旋壓縮機(jī)所具有其他壓縮機(jī)無法比擬的優(yōu)點(diǎn)，從而渦旋壓縮機(jī)大規(guī)模的開發(fā)和研制走上了迅速發(fā)展的道路。

　　隨著半導(dǎo)體、新材料和生物制藥等行業(yè)的飛速發(fā)展，渦旋理論的不斷成熟以及人們對(duì)真空環(huán)境清潔無油的迫切要求，渦旋真空泵以其獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)應(yīng)運(yùn)而生。20世紀(jì)80年代早期，渦旋真空泵以其密封性好，返油率低的特性被Coffin Do應(yīng)用在高真空系統(tǒng)中。1987年,日本三菱電機(jī)公司首次成功開發(fā)回轉(zhuǎn)型渦旋真空泵, 在結(jié)構(gòu)和性能上顯示了絕對(duì)的優(yōu)勢(shì)。1988年,立式回轉(zhuǎn)型油潤(rùn)滑渦旋真空泵由日本東京大學(xué)的Morishita E研制成功。

　　干式真空泵與油潤(rùn)滑真空泵的區(qū)別在于,泵腔內(nèi)不含任何的油類和液體。因此,解決泵內(nèi)的密封和冷卻問題是干式渦旋真空泵研究的關(guān)鍵。1990年，采用水冷方式進(jìn)行冷卻的臥式干式渦旋真空泵由 Kushiro T研制成功。1998年，采用風(fēng)冷方式進(jìn)行冷卻的干式渦旋真空泵由 Sawada T研制成功，其主軸上裝有兩個(gè)冷卻風(fēng)扇，分別位于兩個(gè)靜盤的端部。

　　渦旋真空泵按兩渦旋盤運(yùn)動(dòng)方式的不同可分為兩種類型：公轉(zhuǎn)型和回轉(zhuǎn)型。

　　公轉(zhuǎn)型渦旋真空泵中的一個(gè)渦旋盤固定不動(dòng)，稱為靜渦旋，另一個(gè)渦旋盤稱為動(dòng)渦旋盤。電機(jī)帶動(dòng)曲軸旋轉(zhuǎn)，曲軸推動(dòng)動(dòng)渦旋盤基圓圓心繞靜渦旋盤基圓圓心做半徑為 r(兩渦旋盤之間的徑向距離)的圓周運(yùn)動(dòng)，由防自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)限制動(dòng)渦旋盤不能自轉(zhuǎn)。其中電機(jī)轉(zhuǎn)速通常約為1500r/min，此時(shí)泵的極限真空度較高，并隨電機(jī)轉(zhuǎn)速的變化極限真空度變化較小。

　　回轉(zhuǎn)型渦旋真空泵中兩個(gè)渦旋盤都是動(dòng)渦旋盤，它們同步同方向各自繞自身基圓圓心旋轉(zhuǎn)，相對(duì)運(yùn)動(dòng)仍為公轉(zhuǎn)平動(dòng)。

　　兩種型式的渦旋真空泵，公轉(zhuǎn)型式的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、零件少，回轉(zhuǎn)型式的結(jié)構(gòu)復(fù)雜、零件多。目前多數(shù)廠家的渦旋真空泵產(chǎn)品都為公轉(zhuǎn)型。

　　國(guó)內(nèi)外已投放市場(chǎng)的渦旋真空泵主要有：美國(guó)Agilent公司的雙面渦旋真空泵、英國(guó) Edwards公司的單面單頭渦旋齒渦旋真空泵、德國(guó) Busch 公司生產(chǎn)的渦旋真空泵、中國(guó)科學(xué)院沈陽科學(xué)儀器研制中心有限公司的雙面單頭渦旋齒渦旋真空泵，等等。