中國電子學(xué)會真空電子學(xué)分會第十九屆學(xué)術(shù)年會征文通知
由中國電子學(xué)會真空電子學(xué)分會主辦,微波電真空器件國家級重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室協(xié)辦的中國電子學(xué)會真空電子學(xué)分會第十九屆學(xué)術(shù)年會定于2013年9月舉行,現(xiàn)開始進(jìn)行學(xué)術(shù)論文征集。征文有關(guān)事項(xiàng)通知如下,熱切希望真空電子學(xué)分會委員、中國電子學(xué)會會員及全國真空電子學(xué)相關(guān)領(lǐng)域的專家和工程技術(shù)人員,各高等院校、生產(chǎn)廠和研究所的教授、學(xué)者、專業(yè)人員等踴躍撰稿,積極參加。
一、征文內(nèi)容(專題1-7)
1、微波真空電子器件及其他真空電子管:行波管、速調(diào)管、正交場器件、多注器件、快波器件、自由電子激光、高脈沖功率器件及空間電荷控制管、離子管、氣體放電器件、真空開關(guān)管等。
2、場致電子發(fā)射:場致電子發(fā)射的新材料、新工藝和新原理及相關(guān)理論、模型和模擬計算;場發(fā)射器件的結(jié)構(gòu)設(shè)計、制備技術(shù)、性能表征及評估方法;場致電子發(fā)射顯示的熒光粉和驅(qū)動技術(shù)。
3、真空微納電子器件及微納加工技術(shù):真空微納電子學(xué)的理論、模型和模擬計算研究;真空微納電子器件及物理研究;微納加工技術(shù);太赫茲真空輻射源。
4、顯示器件:CRT技術(shù)、平板顯示技術(shù)(等離子)。
5、真空光電器件和電光源:微光攝像管、光電倍增管、紫外光電管、核輻射計數(shù)器、工業(yè)和醫(yī)療X光管、真空電光源。
6、系統(tǒng)和應(yīng)用:微波/毫米波功率模塊MPM、集成電源適配器、線性化器、可靠性技術(shù)、系統(tǒng)應(yīng)用技術(shù)(雷達(dá)、電子對抗、通信、制導(dǎo)、醫(yī)療、工業(yè)加熱、電力系統(tǒng)等)、真空設(shè)備技術(shù)。
7、基礎(chǔ)理論和技術(shù):CAD技術(shù)、電真空材料和工藝、元件、電子發(fā)射、射頻擊穿、測量技術(shù)、電子光學(xué)、互作用電路、收集極、熱分析和控制。
二、論文的格式要求
本次學(xué)術(shù)會議將出版精美論文集,經(jīng)過會議學(xué)術(shù)論文評審組審查通過的論文將被收錄進(jìn)論文集。
1、格式要求:文章用A4紙幅面,頁面設(shè)置為上、下各2.0厘米、右2.0厘米、左2.5厘米(裝訂邊),每篇文章不超過五頁。來稿請注明所屬專題,作者通信地址、郵編及傳真、電子信箱或電話(手機(jī))號,稿件經(jīng)專家組審定收錄后,將通知第一作者。
2、論文征集截稿日為2013年6月30日。稿件請用電子郵件投遞,收到電子回函表示確認(rèn)。
3、論文由幾個部分組成:題目、作者姓名、工作單位、摘要、關(guān)鍵詞、引言、正文、參考文獻(xiàn)。題目用3號黑體字,作者姓名用4號仿宋,作者單位用5號仿宋,摘要、關(guān)鍵詞引言及正文用5號宋體,文中的標(biāo)題或段落標(biāo)題為5號宋體加粗。
4、來稿須在末尾(參考文獻(xiàn)后)注明本論文是否口頭報告。最終是否安排口頭報告將由論文評審專家組確定,并在正式會議通知中告之作者。
三、真空電子學(xué)分會第十九屆學(xué)術(shù)年會將采用大會報告與分組口頭報告方式,口頭報告一律要求采用Power Point形式,會議將提供計算機(jī)、投影儀。
四、本屆學(xué)術(shù)年會設(shè)立35歲以下青年(第一)作者優(yōu)秀論文獎,一等獎2名、二等獎3名、三等獎4名,獎金分別為2000元、1000元和500元,并頒發(fā)由中國電子學(xué)會真空電子學(xué)分會與大功率微波電真空器件技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合署名的獲獎證書。
五、稿件為非密公開級,請作者辦理所在單位的公開發(fā)表手續(xù),收到稿件即認(rèn)為已辦妥,文責(zé)自負(fù)。
六、通訊地址:北京749信箱科技處,100015 郵件地址:g.wang163402@139.com
場致電子發(fā)射專題論文請發(fā)至中科院物理所李俊杰:jjli@aphy.iphy.ac.cn
聯(lián)系人:王剛、王軍電話:010-64386916、010-84352168 傳真:010-64362878