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TiO2/SiOxNy/SiO2層疊結構柵介質的電容-電壓特性研究

本文討論了以射頻磁控濺射為主要工藝制備的TiO2/SiOxNy/SiO2結構高k柵介質。

真空墻的制備、特點及其應用

本文主要講述了真空墻的制備技術、特點及其應用領域。

真空澆注技術在變壓器線圈制造中的應用

介紹了樹脂真空澆注技術在干式變壓器線圈制造領域的應用，強調了制造優質的、具有固體絕緣特征的變壓器線圈，必須有一套完整的、與線圈結構相適配的樹脂體系和澆注設備。

磁控濺射法制備NiZnCo鐵氧體磁性薄膜的后退火處理研究

研究了后退火處理對磁控濺射法制備NiZnCo 鐵氧體磁性薄膜的成分、組織及性能影響。

硅在紅外光學薄膜中的應用研究

介紹了硅的理化特性以及在光學薄膜設計中的應用特點。

Sn摻雜CdO透明導電薄膜的制備和光電性能研究

通過脈沖激光法在石英玻璃基底上沉積了錫摻雜氧化鎘(Sn- CdO)透明導電薄膜。X 射線衍射，分光光度計和霍爾效應儀檢測了薄膜的結構、光學和電學性能。

一種單孔真空注油新方法

本文提出一種新的工藝，能夠滿足對設備進行真空注油的要求，特別適合只有一個注油口的設備。

六種石墨烯的制備方法介紹

本文介紹了6種石墨烯材料的制備方法：機械剝離法、化學氧化法、晶體外延生長法、化學氣相沉積法、有機合成法和碳納米管剝離法等。

化學氣相沉積法制備高質量石墨烯

利用液態銅的良好流動性及均勻性等特點消除了所得石墨烯的晶界，制備出了高質量大面積的單層石墨烯薄膜。

一種電子碰撞型離子源性能的數值模擬研究

建立了一種電子碰撞型離子源模型，分析了離子源各參數對聚焦和離子引出效率的影響。

銀錫合金的加鋅提銀研究

本文考慮利用加鋅提銀的方法回收銀

真空鈣熱還原二氧化鈦制備高純度鈦粉的研究

用金屬鈣做還原劑直接還原TiO2 制備金屬鈦是一種流程短，成本較低的新工藝。

真空蒸餾分離鉛銀合金的研究

利用Pb 與Ag 飽和蒸汽壓間的差距可以有效實現鉛銀合金的分離，理論上可以得到純度達到99.9%的銀。

真空蒸發鍍膜的蒸發源的種類及工作方式

蒸發源是用來加熱膜材使之汽化蒸發的裝置。目前所用的蒸發源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。

真空蒸發鍍膜過程中的真空條件

增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發粒子的碰撞幾率，把真空室內抽成高真空是必要的。

真空蒸發鍍膜的物理過程

金屬薄膜表面微裂紋萌生行為的分子動力學研究

基于分子動力學,對連續載荷作用下的帶有缺陷的銅金屬薄膜進行模擬分析。

真空絕熱板部件真空出氣性能及機理分析

真空絕熱板(VIPs)芯材放氣機理

對構成真空絕熱板VIPs的內部芯材的放氣性能進行了全面總結。

真空絕熱板(VIPs)表面隔膜的放氣性能與放氣機理

對構成VIPs 的表面隔膜的放氣性能進行了全面總結。