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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

大型臥式真空退火爐的研制

該大型臥式真空退火爐是用于鈦、鋯等稀有金屬管材退火的設備，退火工件最長尺寸為16 m，是國內長度和容量最大的真空退火爐。
氣凝膠薄膜能源材料的研究進展

氣凝膠是一種新型納米多孔材料，具有孔洞率高、比表面積大、熱導率低、折射率小且可調范圍大等特點。
紅外增透保護薄膜的研究及應用

揭示了紅外增透保護膜的氣動熱/力失效機制，提出抗氣動熱/ 力失效多光譜紅外增透保護膜的概念和利用反濺輔助實時強化紅外增透保護膜的方法
納米結構碳薄膜低摩擦機制及發動機應用

設計構筑在大氣環境條件下具有超低摩擦特性的固體潤滑薄膜材料與技術，實現工程應用是該領域的關鍵挑戰。
反應濺射外延半金屬Fe3O4薄膜的各向異性和界面耦合

半金屬Fe3O4具有較高的居里溫度(858 K)和理論上100%的自旋極化率，是自旋電子學器件的理想候選材料。
納米氧化物薄膜的APCVD法制備、微結構與穩定性

采用常壓化學氣相沉積法(APCVD)在浮法玻璃基板上沉積制備了摻氟氧化錫薄膜、氧化鈦薄膜等各類節能功能鍍層。
電磁約束直流電弧等離子體真空無接觸熔煉研究

在對高導電材料提純過程中引入電磁約束無接觸熔煉技術，可以避免熔體與坩堝接觸，有效地阻止坩堝帶來的雜質污染。
磁控靶材面積與承載功率范圍及實際承載功率

磁控靶材面積與承載功率范圍及實際承載功率
磁控靶濺射沉積率的影響因素

濺射沉積率是表征成膜速度的參數，其沉積率高低除了與工作氣體的種類與壓力、靶材種類與“濺射刻蝕區“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場強度、靶源與基片的間距等影響因素外。
影響磁控靶濺射電壓的幾個因素

影響磁控靶濺射電壓的主要因素有：靶面磁場、靶材材質、氣體壓強、陰-陽極間距等。
影響磁控靶點火電壓的幾個因素

影響磁控靶點火電壓的因素主要包括：氣體壓力、電源以及靶材。
磁控陰極濺射靶的分類

磁控陰極濺射靶，它既是一個真空鍍膜機械零部件,同時也是一個電力電子元器件。
錫鉛銻合金分離新技術

工業應用表明真空蒸餾方法以其清潔、高效、低投入帶了明顯的經濟效益。
有色金屬的真空冶金

針對國內外有色金屬冶金工業的發展以及存在的問題，研究真空冶金的理論和方法。
銅銦鎵硒太陽能電池及其產業化設備

薄膜太陽能電池因其材料用量大大少于常規的晶硅電池，被認為是大幅度降低清潔能源成本的發展方向之一。
2020 年之后的電子學：碳基電子學的機遇和挑戰

簡單地回顧一下基于一維納米材料特別是碳納米管的CMOS 技術的發展，目前所面臨的困難，以及可能的解決途徑以及展望。
集成電子材料研究進展

本報告首先分析了當前我國電子信息產業的現狀，特別是電子材料與元器件行業的狀況，結合國際電子信息技術的發展趨勢，闡述了研究集成電子材料的重要意義。
真空常壓與氣體保護電渣熔煉的比較

真空、常壓與氣體保護電渣熔煉都是用來提高鋼材及合金質量的冶金技術，叁者的冶金特性有相似之處，也有不同的地方。本文通過分析對比，找出每種方法的利弊，供冶金工作者選用。
自行車真空輪胎問世，但耐久性與成本限制其發展

雖然真空輪胎存在著不必擔心胎壓等潛在好處，但是耐久性和成本是影響推廣的主要因素。
真空包裝機的選型：選擇合適的真空包裝機，才會提高經濟效益

真空包裝機的種類有很多，在進行包裝的過程中，如果是不能夠嚴格的按照自己的實際需求，選擇最合適的產品來進行使用，將會嚴重的影響到企業的實質發展。