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真空鍍膜

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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

輔助離子束功率密度對透明塑料上室溫磁控濺射沉積ITO薄膜結構和形貌的影響

基于雙極脈沖磁控濺射復合離子束輔助沉積的新工藝,在透明塑料聚碳酸酯基片上,常溫制備了透明導電的銦錫氧化物(ITO)薄膜.重點研究了不同輔助離子束功率密度對ITO薄膜晶體結構和表面形貌的影響。
磁控濺射光學膜均勻性改進

隨著光通訊的發展，對光學薄膜的性能要求越來越高，這對鍍膜機的均勻性提出更高要求。本文通過直接對鍍膜機的夾具進行改進來改善均勻性。
反應磁控濺射的機理與特性

采用PVD方法制備介質薄膜和化合物薄膜，除了可采用射頻濺射法外，還可以采用反應濺射法。即在濺射鍍膜過程中，人為控制地引入某些活性反應氣體，與濺射出來的靶材物質進行反應沉積在基片上，可獲得不同于靶材物質的
中頻脈沖非平衡磁控濺射技術制備類金剛石膜的結構與性能

本文采用中頻脈沖磁控濺射技術制備了類金剛石薄膜，研究了沉積氣壓對薄膜厚度、化學鍵結構、機械性能和光學性能的影響。
電弧離子鍍TiN/Ti納米多層膜的力學性能

本文在TiN涂層和多層結構的基礎上，采用多弧離子鍍方法制備TiN/Ti 多層膜，分析研究調制周期對其結構及其性能的影響。
(TiZr)N硬質膜的沉積工藝研究

本文主要研究(TiZr)N硬質膜的沉積工藝波動范圍及影響�？疾炝岁帢O靶電流、N2氣流量等工藝參數對膜層組織和性能的影響。
真空卷繞鍍膜技術研究進展

本文從系統結構、參數控制和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究進展。
桿狀氧化鈹表面金剛石薄膜的生長

本文利用一種新型線形微波等離子源以CH4和H2為反應氣體在桿狀氧化鈹陶瓷表面進行金剛石膜沉積，研究了基底預處理對金剛石形核密度和膜的連續性，以及基底溫度對金剛石膜表面形貌和質量的影響。
硬質涂層抗熱震性的研究方法與評價

本文對硬質涂層的熱震性做詳細的分析探討，并通過分析熱震損傷機制及表征方法，尋求提高硬質涂層抗熱震性的途徑和方法。
三種聚合物薄膜氦滲透率的測試

本文利用氦質譜檢漏儀測量聚合物薄膜對He的整體漏率，根據菲克定律計算出聚合物薄膜對He的滲透率，并比較分析三種常用聚合物(PET，PDMS，PI)對He滲透率的大小。
YSZ/YSZ-NiO電解質薄膜在低溫條件下的電學特性研究

采用脈沖激光沉積(PLD)法，在多孔支撐的NiO-YSZ 陽極基底上制備YSZ電解質薄膜。利用XRD、SEM和射頻阻抗/ 材料分析儀對多層膜的物相結構、表面形貌以及電學特性等進行表征。
La0.6Sr0.4MnO3/Fe-Ni復合吸波材料制備與性能研究

本文綜合以上考慮制備了鈣鈦礦結構材料La0.6Sr0.4MnO3 和FeNi合金，通過真空球磨將倆種吸波材料按不同比例復合，并進行適當退火處理，大幅度提升了La0.6Sr0.4MnO3吸波性能。
Cu/TiO2/ITO薄膜元件阻變性能與機理研究

本文對TiO2 薄膜阻變性能與機理進行研究，分析得出元件阻變機理與導電細絲理論和普爾-法蘭克效應有關，為解決TiO2 阻變機理的不明朗問題提供了參考。
新型節能玻璃真空鍍膜機將在建筑行業發揮巨大功效

低輻射玻璃與多功能鍍膜玻璃又稱保溫玻璃，具有最大的日光透射率和最小的反射系數，提高了能量利用率，在采暖建筑中可起到保溫與節能的作用。
從iphone6s玫瑰金看真空電鍍手機市場

真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣，氬氣樁基靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。本文從從iphone6s玫瑰金看真空電鍍手機市場的發展情況。
眼鏡鍍膜有什么好處？

眼鏡鍍膜有什么好處？本文講述了眼鏡鍍膜的優缺點及作用。
盤點玻璃手機鏡片的分類與制作工藝

本文講述了玻璃手機鏡片常用制作工藝及分類相關的知識。
真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

在使用真空鍍膜機鍍膜之后，為了需要可能會要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢。本文講述了真空鍍膜的膜層厚度的測量方法。
減少真空鍍膜灰塵的方法

真空管鍍膜表面有一層灰塵會影響真空鍍膜的整體效果，如何減少真空鍍膜的灰塵呢？
真空噴射霧化過程中噴嘴口的流動模型計算與數值分析

真空噴射霧化過程是真空噴射法制備高分子薄膜主要成膜過程，該方法主要是利用真空室內外較大的壓差使聚合物溶液通過噴嘴噴射霧化后分散成不計其數的高速運動的細小液滴到達基片形成高分子薄膜。