本文使用AIP- 01型國(guó)產(chǎn)多弧離子鍍膜設(shè)備，采用不同的弧源電流在不銹鋼襯底及Si 片上制備了TiN 薄膜，對(duì)其硬度、表面形貌以及摩擦系數(shù)等進(jìn)行了測(cè)試，從電弧沉積的物理機(jī)制角度詳細(xì)分析了弧源電流對(duì)TiN 薄膜表面熔滴的影響，結(jié)果表明：隨著弧源電流的增大，薄膜沉積速率增大、硬度提高，但薄膜表面熔滴(MP)數(shù)量增多、尺寸變大，表面粗糙，摩擦系數(shù)增大，因此控制最佳弧源電流來獲得最好的薄膜性能是離子鍍TiN 薄膜的關(guān)鍵問題之一。

　　TiN 薄膜具有較高的硬度和優(yōu)良的耐磨、耐腐蝕性能，是目前研究最多的硬質(zhì)薄膜之一，廣泛應(yīng)用于電子、工模具以及裝飾行業(yè)等。近幾十年來，由于具有金黃色的顏色，TiN 薄膜在裝飾行業(yè)已經(jīng)成功地獲得了廣泛的應(yīng)用，在機(jī)械行業(yè)，TiN 薄膜在刀具、鉆頭、模具上也獲得了成功的應(yīng)用，可顯著提高其使用壽命，但TiN 薄膜的性能受沉積條件的影響很大，人們對(duì)于影響TiN 薄膜性能的各種參數(shù)已進(jìn)行了大量的研究，而弧源電流作為一個(gè)重要的參數(shù)，對(duì)TiN 薄膜的結(jié)構(gòu)及性能有重要的影響，尤其是對(duì)其摩擦學(xué)性能影響更為顯著。

　　本文利用AIP- 01 型多弧離子鍍膜機(jī)在不銹鋼基體及Si 片上沉積了TiN 薄膜，從多弧離子鍍?cè)�理上研究了弧源電流�?duì)TiN 薄膜結(jié)構(gòu)及摩擦學(xué)性能的影響。

1、實(shí)驗(yàn)材料與方法

　　http://bjjyhsfdc.com/application/film/042923.html

2、實(shí)驗(yàn)結(jié)果及分析

2.1、弧源電流對(duì)TiN薄膜表面形貌的影響

　　http://bjjyhsfdc.com/application/film/042924.html

2.2、弧源電流對(duì)TiN薄膜沉積速率的影響

　　http://bjjyhsfdc.com/application/film/042925.html

2.3、弧源電流對(duì)TiN薄膜硬度的影響

　　http://bjjyhsfdc.com/application/film/042926.html

2.4、弧源電流對(duì)TiN薄膜摩擦系數(shù)的影響

　　http://bjjyhsfdc.com/application/film/042927.html

3、結(jié)論

　　使用多弧離子鍍?cè)O(shè)備制備了TiN 薄膜，詳細(xì)研究了弧源電流對(duì)制備的TiN 薄膜性能的影響規(guī)律，隨著弧源電流的增大，多弧離子鍍?cè)O(shè)備真空室溫度升高，薄膜沉積速率增大，所制備的TiN薄膜表面的熔滴顆粒數(shù)量增多，尺寸變大，導(dǎo)致薄膜表面粗糙度增大，摩擦系數(shù)升高，但是，隨著弧源電流的增大，TiN 薄膜的硬度升高。