化學(xué)水浴法制備In2S3薄膜的組織和性能研究

2013-09-25 王衛(wèi)兵 上海理工大學(xué)

  采用化學(xué)水浴(CBD) 法在InCl3.4H2O 和CH3CSNH2 的酸性混合溶液體系中分別通過改變pH 值、溶液nIn: nS 濃度比及溶液溫度參數(shù)依次制備In2S3 薄膜,并通過X 射線衍射、掃描電鏡及紫外/ 可見/ 近紅外分光光度計(jì)等手段系統(tǒng)研究不同工藝下制備In2S3 薄膜的晶相結(jié)構(gòu)、表面形貌及光學(xué)性能。研究發(fā)現(xiàn): 溶液pH 值對(duì)制備In2S3 薄膜有很大的影響,在pH 為1.8制備的In2S3 薄膜性能較好;溶液nIn: nS 濃度比影響薄膜的致密性,在1B4 時(shí)相對(duì)較好;CBD 法制備薄膜最佳溶液溫度為80℃ 。在優(yōu)化工藝參數(shù)下制備的In2S3 薄膜可見光透過率在90%以上,禁帶寬度為2.72eV,能夠滿足CIGS太陽(yáng)能電池緩沖層薄膜的要求。

  銅銦鎵硒(CIGS) 薄膜太陽(yáng)能電池具有成本低、光電轉(zhuǎn)化率高、性能穩(wěn)定等優(yōu)異的性能,使其成為最有發(fā)展前景的光伏電池之一。CIGS 薄膜太陽(yáng)能電池的典型結(jié)構(gòu)為: 襯底/Mo/CIGS/ 緩沖層/ ZnO/ZAO/MgF2。其中緩沖層在低帶隙CIGS 吸收層與高帶隙ZnO 窗口層之間形成過渡,減少兩者之間的帶隙臺(tái)階與晶格失配,對(duì)改善CIGS 薄膜太陽(yáng)能電池pn 結(jié)質(zhì)量有重要的作用。目前采用CdS 為緩沖層的CIGS 薄膜太陽(yáng)能電池效率已達(dá)到20.3%。然而,由于Cd 對(duì)環(huán)境的污染等不利因素限制了電池的大面積使用,因此研究開發(fā)高效的無Cd 緩沖層材料替代CdS 是緩沖層發(fā)展的主要方向。

  In2S3 是III-VI 族化合物半導(dǎo)體,性能穩(wěn)定且無毒,有良好的光電性能,可取代CdS作為CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的緩沖層。制備In2S3 薄膜的方法主要有超聲噴霧法、濺射法、原子層沉積法等,這些技術(shù)制備的薄膜雖然質(zhì)量好,但成本高、設(shè)備復(fù)雜。而化學(xué)水浴(CBD) 法具有設(shè)備簡(jiǎn)單、成本低、易于大面積成膜等優(yōu)點(diǎn),而且在制備過程中對(duì)CIGS 吸收層表面有修復(fù)的作用。因此,本文采用CBD 法通過改變?nèi)芤簆H 值、nIn: nS 濃度比及溫度參數(shù)制備不同的In2S3 薄膜,系統(tǒng)研究不同工藝下制備In2S3 薄膜的晶相結(jié)構(gòu)、表面形貌及光學(xué)性能,以期為In2S3 薄膜的低成本CBD 制備工藝提供指導(dǎo)。

1、實(shí)驗(yàn)材料與方法

  本實(shí)驗(yàn)采用CBD法在InCl3.4H2O,CH3CSNH2(TAA) ,CH3COOH( AC) 混合溶液中制備In2S3 薄膜,所用的藥品均為分析純。襯底為20 mm × 30 mm× 1mm 的玻璃片,將襯底依次用丙酮、乙醇分別超聲清洗12 min,再用去離子水沖洗后放在保溫箱里面烘干。在恒溫磁力攪拌器下將配置好反應(yīng)溶液的小燒杯放入一定溫度的恒溫水浴槽,襯底豎直固定于反應(yīng)溶液內(nèi),燒杯口用鋁紙密封,在磁力攪拌下待溶液反應(yīng)完全后取出,用去離子水去除表面雜質(zhì),再用N2 吹干。

  采用Bruker 公司的D8 ADVANCE 型X 射線衍射(XRD) 儀分析薄膜的晶相結(jié)構(gòu),用FEI 公司的QuantaFEG450 型場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡(SEM)分析薄膜的表面形貌,用PerkinElmer 公司的Lambda750(S) 型紫外/ 可見/ 近紅外分光光度計(jì)(UV/ Vis/NIR) 測(cè)試薄膜的透過率,并根據(jù)Tauc 關(guān)系式計(jì)算薄膜的禁帶寬度。

結(jié)論

  (1) 溶液pH值對(duì)CBD法制備In2S3 薄膜有很大的影響,在pH= 1.8 條件下得到的In2S3 薄膜結(jié)晶較好,呈纖維狀的立方相結(jié)構(gòu)。

  (2) 反應(yīng)溶液nInBnS的配比影響In2S3 薄膜的致密性;在nInBnS= 1B4 時(shí)沉積的In2S3 薄膜相對(duì)較好。

  (3) 溶液溫度較低時(shí),In2S3薄膜結(jié)晶性較差;溫度較高時(shí),結(jié)晶程度也有所下降,80℃ 為制備n2S3薄膜的最佳溫度。

  (4) 采用CBD 制備In2S3薄膜的最佳工藝為pH= 1.8、nInBnS= 1B4、溶液溫度80℃ ,制備的In2S3 薄膜透過率和禁帶寬度分別達(dá)到90% 和2.72eV。