常規(guī)真空工藝對(duì)環(huán)境的要求

        所謂常規(guī)真空工藝系指沒(méi)有特殊要求的真空工藝過(guò)程，這類(lèi)真空裝置（設(shè)備）對(duì)真空衛(wèi)生的要求：

      （1）凡是處于真空中的真空設(shè)備零件，都要求無(wú)積存的污染源，表面無(wú)塵埃，無(wú)鐵屑、無(wú)銹蝕；

      （2 ）真空設(shè)備的真空室表面要光滑、無(wú)松軟組織和氣孔、無(wú)內(nèi)焊縫等影響真空的缺陷；

      （3 ）高真空設(shè)備中，真空室內(nèi)的運(yùn)動(dòng)部件不得用機(jī)油作潤(rùn)滑劑，要用飽和蒸氣壓低的擴(kuò)散泵油、硅油作潤(rùn)滑劑；法蘭、觀察窗的密封部件要涂以高真空油脂；

      （4）真空設(shè)備一般應(yīng)在溫度為15～30℃，相對(duì)濕度不高于70%的清潔空氣流通的環(huán)境中工作，冷卻水進(jìn)水溫度不高于25 ℃。

電真空工藝對(duì)環(huán)境的要求

         電真空結(jié)構(gòu)材料除具有良好的機(jī)械性能和加工性能外，還要滿(mǎn)足其他性能的要求，即容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學(xué)穩(wěn)定性、一定的純度和清潔度、合適的輻射能力等。所以電真空工藝具有特殊性，對(duì)清潔處理要求是極為嚴(yán)格的，應(yīng)最大限度清除或減少零件的污染。

真空鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的要求

        真空鍍膜工藝襯底（基片）表面的清潔處理很重要，基片進(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來(lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物；零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜；零件表面吸收和吸附的氣體。這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清洗方法將其去掉。