用于真空測(cè)量的場(chǎng)發(fā)射陰極制備及研究進(jìn)展

2013-05-24 李得天 真空低溫技術(shù)與物理重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

  主要回顧了近半個(gè)世紀(jì)用于真空測(cè)量的多種場(chǎng)發(fā)射陰極,闡述其制備方法及應(yīng)用現(xiàn)狀,說(shuō)明了各種陰極結(jié)構(gòu)的特點(diǎn),最后介紹了近幾年場(chǎng)發(fā)射陰極制備研究的最新進(jìn)展。新型場(chǎng)發(fā)射陰極,對(duì)于真空測(cè)量的未來(lái)發(fā)展具有重要的推動(dòng)作用。

1、引言

  電離規(guī)是解決超高/極高真空測(cè)量的實(shí)用規(guī),其中冷陰極電離規(guī)是在磁場(chǎng)約束下放電工作,其應(yīng)用具有一定的局限性,而熱陰極電離規(guī)是目前應(yīng)用最為普遍的規(guī),經(jīng)過(guò)幾十年發(fā)展其原理趨于成熟,性能趨于穩(wěn)定,但自身存在的許多問(wèn)題仍然限制其進(jìn)一步應(yīng)用,例如,高溫?zé)彡帢O效應(yīng)、高能耗、熱輻射和光輻射、軟X 射線、陰極熱蒸發(fā)、機(jī)械疲勞等問(wèn)題。

  真空技術(shù)網(wǎng)(http://bjjyhsfdc.com/)綜合分析近年來(lái)新型電離規(guī)的應(yīng)用研究,為克服電離規(guī)中熱陰極存在的各種問(wèn)題,新型陰極的應(yīng)用成為國(guó)內(nèi)外普遍關(guān)注的方向,其中,場(chǎng)發(fā)射陰極(FEC) 作為室溫下工作的“冷”陰極被廣泛應(yīng)用于各種新型電離規(guī)的實(shí)驗(yàn)研究和工業(yè)應(yīng)用中。自Mourad于1964 年首次將金屬單尖作為“冷”陰極用于軌道式電離規(guī)開始,至今應(yīng)用于此類新型電離規(guī)研究的FEC已經(jīng)歷了數(shù)次革新,陸續(xù)出現(xiàn)了多種極具應(yīng)用價(jià)值的新型FEC,例如,“金屬- 絕緣體- 金屬”(MIM) 陰極、P-N結(jié)陰極、金屬陣列陰極以及近年來(lái)頗受關(guān)注的碳納米管(CNT) 陣列陰極等。由此可見(jiàn),未來(lái)FEC 電離規(guī)的發(fā)展將主要取決于新型FEC 的制備研究與應(yīng)用。

2、真空測(cè)量中場(chǎng)發(fā)射陰極的制備研究

  國(guó)內(nèi)外學(xué)者基于傳統(tǒng)真空規(guī)結(jié)構(gòu),研制了各種類型的FEC真空規(guī),其中FEC制備是此類研究的關(guān)鍵技術(shù)所在,采用不同方法和工藝制備的陰極性能差異較大,也分別適用于不同條件和需求的真空測(cè)量。

2.1、早期應(yīng)用于真空測(cè)量的場(chǎng)發(fā)射陰極

  目前的真空測(cè)量應(yīng)用中,除熱電子發(fā)射以外,其它的陰極工作機(jī)制主要包括光電發(fā)射陰極、二次發(fā)射陰極和場(chǎng)發(fā)射陰極。其中,只有場(chǎng)發(fā)射理論上有可能解決熱陰極所存在的問(wèn)題,因?yàn)楣怆姲l(fā)射的實(shí)現(xiàn)需要高亮度紫外光源,而且發(fā)射電流很低,受氣體吸附影響嚴(yán)重; 而實(shí)現(xiàn)二次電子發(fā)射需要初始電子或離子,同時(shí)也會(huì)受到氣體吸附的影響; 場(chǎng)發(fā)射陰極(FEC) 通常在室溫下工作,因而也被稱為“冷”陰極。從20 世紀(jì)中期開始,真空測(cè)量領(lǐng)域出現(xiàn)了多種形式的場(chǎng)發(fā)射陰極,主要包括以下幾種: 金屬單尖、“金屬- 絕緣體- 金屬”(MIM) 陰極、P - N 結(jié)陰極、金屬場(chǎng)發(fā)射陣列(FEA) 、碳納米管(CNT) 陣列。

2.1.1、金屬單尖陰極

  金屬單尖是最早作為FEC 應(yīng)用于真空規(guī)的場(chǎng)發(fā)射陰極,通常采用濕法刻蝕的方法制備,如利用氫氧化鈉( NaOH) 溶液刻蝕金屬絲可獲得曲率半徑幾百納米的單尖。1964 年,學(xué)者M(jìn)ourad 首次制備了曲率半徑250 nm 的金屬鎢尖作為陰極,并嘗試應(yīng)用于“軌道式”真空規(guī),此陰極最終因場(chǎng)發(fā)射穩(wěn)定性極差而失敗。1987 年,李旺奎等用刻蝕方法制備了100 ~ 300 nm 的鎢尖冷陰極,門極電壓為400 V 時(shí),能夠產(chǎn)生幾微安的電流,但因鎢尖受到離子轟擊極易損壞,使穩(wěn)定性不能得到保證。

2.1.2、P - N結(jié)陰極

  P-N結(jié)陰極是通過(guò)在一個(gè)P 型半導(dǎo)體材料上滲透一層非常薄的N 型半導(dǎo)體薄膜形成的,P-N結(jié)工作在反接狀態(tài)的時(shí)候,電子便可以在空間電荷區(qū)中加速,這些電子通過(guò)聲子碰撞和碰撞電離降低能量,當(dāng)達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)時(shí),電子的能量要比帶正電的空穴能量高,能量比功函數(shù)高的電子可以通過(guò)固體表面和固體晶格之間的通道溢入真空環(huán)境。

  1970 年,Dobrott 和Oman 采用反向偏置的碳化硅(SiC) P-N 結(jié)二極管作為陰極,發(fā)射電流達(dá)到10 mA,但應(yīng)用于真空規(guī),電流極其微弱只有10-9 A,而且收集極離子流與真空度不是典型的線性關(guān)系。

2.1.3、MIM 陰極

  “金屬- 絕緣體- 金屬”(MIM) 陰極包含兩個(gè)金屬電極1 和2,兩者之間由一層幾納米厚的絕緣薄膜( 如氧化物薄膜、氮化物薄膜、氟化物薄膜或者聚合物薄膜) 隔開,當(dāng)兩個(gè)金屬電極間加上幾伏電壓時(shí),穿過(guò)極薄絕緣層的強(qiáng)電場(chǎng)能夠使金屬電極1 釋放自由電子,自由電子在電場(chǎng)力的作用下注入絕緣層并加速,最終部分電子穿過(guò)金屬薄膜2 溢入真空,而部分電子會(huì)被金屬原子所散射,極小部分電子在穿過(guò)絕緣層的過(guò)程中也會(huì)溢入真空環(huán)境。

  1990 年,Mitsui 和Shingehara 首次將MIM 陰極應(yīng)用到B - A 規(guī)。通過(guò)蒸發(fā)和氧化過(guò)程制備Al-Al2O3 -Au 結(jié)構(gòu),陰極面積2 mm × 3 mm,平均場(chǎng)發(fā)射電流7 μA。真空測(cè)量應(yīng)用中發(fā)現(xiàn),場(chǎng)發(fā)射電流低和工作壽命短是主要的問(wèn)題。

2.1.4、金屬陣列陰極

  金屬單尖陰極場(chǎng)發(fā)射電流小,穩(wěn)定性差,前人多次嘗試失敗后,國(guó)內(nèi)外學(xué)者開始關(guān)注場(chǎng)發(fā)射陣列( FEA)陰極,從20 世紀(jì)90 年代初開始,F(xiàn)EA 陰極開始被廣泛應(yīng)用于電離規(guī)。常用的冷陰極是由硅或鉬生長(zhǎng)于半導(dǎo)體晶片上制備而成的場(chǎng)發(fā)射陣列,每平方厘米陣列面積上包含幾百萬(wàn)個(gè)獨(dú)立的金屬微尖。Spindt 型陰極是歷史上最早成功制備的場(chǎng)發(fā)射陣列(FEA) 陰極,它包含許多錐形鉬微尖,每個(gè)鉬微尖對(duì)應(yīng)一個(gè)門極,當(dāng)在門極和基板加上一定電壓時(shí),強(qiáng)電場(chǎng)使得生長(zhǎng)在基板上的發(fā)射單元發(fā)射電子。

  1993 年,Otuka 等和Oshima 等將Spindt 型場(chǎng)發(fā)射陣列陰極( 包含10 000 個(gè)鉬微尖) 成功應(yīng)用于分離規(guī)。在實(shí)驗(yàn)初期,門極化學(xué)吸附造成的出氣效應(yīng)很嚴(yán)重,但陰極穩(wěn)定性非常好,可達(dá)數(shù)千小時(shí)。

  1994 年,Baptist 和Py 用場(chǎng)發(fā)射陣列(FEA) 陰極取代B-A 規(guī)熱陰極結(jié)構(gòu),用平板顯示器中使用的鉬微尖場(chǎng)發(fā)射陣列(Spindt 型) 作為陰極材料,將其制備成面積20 mm2 的圓片,包含280 000 個(gè)微尖,直接指向柵網(wǎng),引出電勢(shì)為60 V 時(shí),場(chǎng)發(fā)射電流可以達(dá)到1 mA,對(duì)應(yīng)每個(gè)鉬微尖發(fā)射電流為3 nA,但陰極仍然存在穩(wěn)定性差的問(wèn)題,在溫度高于150 ℃和低真空條件下,陰極極易受到損壞; 隨后,Baptist 還制備另一種陣列陰極(2 mm × 0.5 mm 面積上包含2 × 1 000 個(gè)微尖) ,局部錐尖結(jié)構(gòu)如圖1 所示,并提出在粗低真空中使用微小脈沖電流能夠有效克服穩(wěn)定性差的缺點(diǎn),并成功擴(kuò)展了真空規(guī)測(cè)量的上限。

Baptist 的金屬錐尖陣列陰極

圖1 Baptist 的金屬錐尖陣列陰極

  Graf 等研制出一種應(yīng)用于分離規(guī)的Spindt 型微尖陣列陰極。2004 年FEC 分離規(guī)搭載在“羅塞塔”號(hào)航天器上,對(duì)Churyumov - Gerasimenko 彗星的表面氣體成分、彗核表面組成和等離子體進(jìn)行了分析研究,陰極陣列包含2 × 106 個(gè)鉬微尖,分割成32 mm × 36 mm 的獨(dú)立可尋址像素點(diǎn),陰極總表面積10 mm × 10 mm,陰極結(jié)構(gòu)如圖2 所示。

用于分離規(guī)的Spindt 型微尖陣列陰極

圖2 用于分離規(guī)的Spindt 型微尖陣列陰極

  除此以外,Dong、Watanabe、Granz等都陸續(xù)制備了多種結(jié)構(gòu)的FEA,并將其應(yīng)用于新型電離規(guī)的研究。