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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

PDP子場數據自適應優化低功耗尋址方法

為降低等離子體顯示器(PDP)的尋址功耗, 在分析PDP尋址功耗和圖像信息在各子場分布特征的基礎上, 根據人眼視覺在不同背景亮度下對圖像信息感知能力不同的特點, 提出了子場數據自適應優化低功耗尋址方法。
新型反射腔在多頻相對論返波振蕩器中的粒子模擬研究

設計了兩類新型同軸反射腔并成功地應用于多頻高功率微波輸出。反射腔采用非對稱的同軸結構, 置于同軸相對論返波振蕩器( CRBWO) 慢波系統的前端。
金屬離子源磁過濾器磁場位形的設計與實驗研究

根據磁過濾器對磁場的要求, 利用水冷銅管產生的反向磁場, 設計一個軸向磁場較弱的磁鏡式磁過濾器。
35CrMo鋼表面化學氣相沉積多層硬質涂層的結構與性能研究

采用化學氣相沉積法在35CrMo鋼基表面制備多層硬質涂層，并測試分析了涂層的組成結構、粗糙度和表面力學性能。
以菱鎂石為原料鋁熱還原煉鎂的實驗研究

對以菱鎂石為原料，以鋁粉為還原劑的真空熱還原煉鎂技術進行了實驗研究，通過熱力學分析和對還原渣的物相分析，對鋁熱還原煅后菱鎂石的機理進行了探討。
基于分形理論的玻璃纖維真空絕熱熱工特性研究

基于分形理論，描述了玻璃纖維多孔介質材料微尺度空間結構，建立分形等效單元體模型，分析了影響其真空下有效導熱系數關鍵因素。
SOI高g值壓阻式加速度傳感器與工藝實現

基于SOI技術, 利用電感耦合等離子體硅深加工，設計制備了一種新型平面內振動高g值壓阻式加速度計。
用于石油鉆井磨料射流噴嘴的研制

采用模壓及真空燒結試制了一種磨料射流噴嘴，用掃描電鏡觀察其組織形貌，并進行硬度和密度的測量。
人工干預二次形核研究

采用直流熱陰極PCVD技術，在CH4- H2 氣氛常規制備微米晶金剛石膜的參數條件下，通過人工干預實現二次形核，制備納米晶金剛石膜。
Cu含量對脈沖偏壓電弧離子鍍TiN-Cu納米復合薄膜硬度的影響

用脈沖偏壓電弧離子鍍技術在高速鋼基體上制備了一系列不同Cu含量的TiN-Cu納米復合薄膜，分別測試了薄膜的成分、形貌、相組成、硬度和彈性模量，重點考察薄膜成分對其硬度和彈性模量的影響。
一種新型楔形膜在真空中的制作方法及測試結果

提出了一種新型楔形膜在真空中的制作方法，可以替代白光干涉位移傳感器中的關鍵元件。
熱解一維鏈狀銅絡合物單晶制備納米氧化銅

采用X- 射線衍射（XRD）、熱重（TG）分析和透射電子顯微鏡（TEM）等手段表征了銅絡合物單晶在900℃下焙燒后的產物。
真空離子鍍鉻合金厚膜替代電鍍硬鉻工藝研究

離子鍍鉻合金厚鍍膜代替電鍍硬鉻工藝研發，已取得滿意成果，可以投入工業生產，可以向社會提供技術及專用設備。
高分子涂層制備技術研究進展

本文綜述了高分子涂層的制備，發現其制備方法具有多樣性，但多在大氣環境中進行，存在高溫分解、涂層內應力大和襯底結合力差等問題。
低壓壓印制備硅點陣結構的工藝研究

本文介紹了一種以低壓壓印結合反應離子刻蝕制備硅點陣的方法，即利用PDMS模板通過壓印復制獲得PMMA掩模結構，用反應離子刻蝕在硅片表面制得高度有序的硅納米點陣結構。
ZSN-800AG2電子束蒸發鍍膜機程序化自動控制系統的設計

本文對ZSN-800AG2電子束蒸發鍍膜機的控制系統進行了設計，重點對應用iFix 組態軟件實現工藝過程用戶可編程序化的動控制方法設計以及數據存儲和趨勢曲線顯示等做了設計分析，完成了整機的工藝試驗。
Si90Al10Nx薄膜的工藝控制及光學性能研究

通過改變磁控濺射過程中氬氣與氮氣的分壓比，制備了多種不同厚度的Si90Al10Nx薄膜樣品，并采用透射率輪廓法對樣品在熱處理前后的光學性能進行了測量和分析。
溫度對磁控濺射氮化鈦薄膜光學性能的影響

本文采用能量過濾磁控濺射技術，通過改變沉積溫度在玻璃襯底上制備了一系列TiN 薄膜。利用XRD進行了物相鑒定，使用分光光度計、橢圓偏振光譜儀和四探針電阻儀測試了TiN 薄膜的光學性能。
光學加工中真空夾具設計及分析

為了在光學加工中快速、可靠地裝夾光學元件，設計了真空夾具，對該真空夾具引起光學元件變形量進行了分析。
真空熱還原氧化鎂的理論分析與實驗研究

通過對C、S i 和Al熱還原MgO的熱力學計算, 分析了不同條件下熱還原吉布斯自由能和反應初始溫度的變化。