定容法和定量氣體動(dòng)態(tài)比較法校準(zhǔn)正壓漏孔比較
定容法校準(zhǔn)正壓漏孔方法
在溫度恒定的條件下,用壓力p 和容積V 的乘積pV表示氣體量,這時(shí)漏孔漏率Q 就是pV 對(duì)時(shí)間t的全微分,即:
如果容積保持不變,則為定容法;如果壓力保持不變,則為恒壓法。對(duì)于校準(zhǔn)正壓漏孔來(lái)說(shuō),定容法與恒壓法相比,測(cè)量上限容易延伸;測(cè)量下限都受到溫度波動(dòng)的影響,基本相同。但恒壓法校準(zhǔn)裝置的結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜,技術(shù)難度較大,故正壓漏孔校準(zhǔn)一般采用定容法。
用定容法校準(zhǔn)正壓漏孔時(shí),在定容室中充入1個(gè)大氣壓的空氣,在配氣系統(tǒng)中充入2個(gè)大氣壓的示漏氣體。將正壓漏孔的出口端與定容室相連接,入口端與配氣系統(tǒng)相連接。通過(guò)正壓漏孔把示漏氣體引入到定容室中,引起定容室中的壓力上升。在定容室容積不變的條件下,通過(guò)測(cè)量定容室中的壓力變化值和所用的時(shí)間,考慮到溫度的修正,可得到正壓漏孔的漏率:
式中Q 為正壓漏孔的漏率,Pa·L/s;V為定容室的容積,L;△p為定容室中的壓力變化值,Pa; △t為定容室中的壓力變化△p時(shí)所用的時(shí)間,s;Tr為參考溫度,296K;T為定容室中的氣體溫度,K。
當(dāng)測(cè)量較大的漏率時(shí),由于定容室中壓力最大允許變化量△p為出口壓力的5%,即5kPa,從式(2)可知,這時(shí)要增加定容室的容積(10L )和減少測(cè)量時(shí)間,以滿足定容室中的壓力變化量△p不超過(guò)出口壓力的5%。當(dāng)測(cè)量較小的漏率時(shí),為了滿足定容室中的壓力變化量△p 和測(cè)量時(shí)間△t 不至于太長(zhǎng),應(yīng)盡量減小定容室容積(3×10 -2L)。
根據(jù)100~5×10 -3Pa 漏率的校準(zhǔn)范圍,設(shè)計(jì)了4個(gè)容積不等的定容室。定容室中的壓力采用了美國(guó)MKS公司生產(chǎn)的電容薄膜規(guī)測(cè)量。當(dāng)測(cè)量的壓力變化范圍在100~5000 Pa時(shí),用133kPa電容薄膜規(guī)測(cè)量;當(dāng)測(cè)量的壓力變化范圍在50~133Pa時(shí),用133Pa差壓式電容薄膜規(guī)測(cè)量。
定容法的測(cè)量上限主要取決于定容室容積,10L(定容室Ⅱ的漏率測(cè)量上限可達(dá)100 PaL/s,能夠滿足對(duì)漏率較大的正壓漏孔的校準(zhǔn)。定容法的測(cè)量下限主要取決于溫度波動(dòng),為5×10 -3 PaL/s。
定量氣體動(dòng)態(tài)比較法校準(zhǔn)正壓漏孔方法
利用定容法校準(zhǔn)較小漏率的正壓漏孔會(huì)產(chǎn)生較大的誤差。因?yàn)楫?dāng)正壓漏孔的漏率較小時(shí),氣體流入定容室所引起的壓力變化非常慢,這就要增加測(cè)量時(shí)間△t,這時(shí)由溫度波動(dòng)引起的壓力變化量已大于氣體流入定容室中引起的壓力變化量,因此限制了定容法的校準(zhǔn)下限。為了解決較小漏率正壓漏孔的校準(zhǔn)問(wèn)題,提出了用定量氣體動(dòng)態(tài)比較法校準(zhǔn)正壓漏孔,以延伸正壓漏孔的校準(zhǔn)下限。
定量氣體動(dòng)態(tài)比較法是在累積室中充入一個(gè)大氣壓的空氣,通過(guò)正壓漏孔把示漏氣體引入累積室中。經(jīng)過(guò)△t的累積時(shí)間,將累積室中的混合氣體膨脹到10L的定容室Ⅱ中時(shí)進(jìn)行壓力衰減,通過(guò)分子流動(dòng)態(tài)進(jìn)樣引入到質(zhì)譜分析室中,用四極質(zhì)譜計(jì)測(cè)量示漏氣體的分壓強(qiáng)p1;再把標(biāo)準(zhǔn)壓力為ps 的示漏氣體用已知小容積配制成ps×V1 定量氣體,并與累積室中的一個(gè)大氣壓的空氣混合后膨脹到定容室Ⅱ中,通過(guò)分子流動(dòng)態(tài)進(jìn)樣引入到質(zhì)譜分析室中,用四極質(zhì)譜計(jì)測(cè)量定量氣體的分壓力p2。通過(guò)比較兩次測(cè)得的示漏氣體分壓力,計(jì)算出正壓漏孔的漏率:
四極質(zhì)譜計(jì)實(shí)際測(cè)量的是示漏氣體的分壓力所對(duì)應(yīng)的離子流。設(shè)累積氣體中的示漏氣體所對(duì)應(yīng)的離子流為IL,定量氣體中的示漏氣體所對(duì)應(yīng)的離子流為IV。如果考慮到空氣中含有的示漏氣體成分和示漏氣體對(duì)正壓漏孔校準(zhǔn)系統(tǒng)的污染,用累積室配制一個(gè)大氣壓的空氣樣品,膨脹到10L 的定容室Ⅱ中,通過(guò)分子流動(dòng)態(tài)進(jìn)樣引入到質(zhì)譜室中,用四極質(zhì)譜計(jì)測(cè)量對(duì)應(yīng)于示漏氣體的離子流為IA,由式(2)可得實(shí)際的漏率計(jì)算公式如下:
為了增加示漏氣體的濃度和減少示漏氣體的累積時(shí)間,必須盡量減小累積室容積。累積室容積由正壓漏孔的出口端與閥門(mén)11之間的小容積組成,小于10ml。
為了避免四極質(zhì)譜計(jì)線性誤差,通過(guò)調(diào)節(jié)示漏氣體標(biāo)準(zhǔn)壓力ps,或選用1ml 或10ml的定量容積進(jìn)行配氣,使得兩次測(cè)量的示漏氣體離子流IA與IL盡量地接近。示漏氣體的標(biāo)準(zhǔn)壓力調(diào)節(jié)范圍為1.33×10 3~10 Pa,可用滿量程13.3kPa 電容薄膜規(guī)測(cè)量。氣體累積時(shí)間△t為100~10 000,校準(zhǔn)范圍為2×10 -2~5×10 -5 PaL/s。
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