氦質(zhì)譜真空檢漏常用的基本方法是噴吹法和氦罩法, 如圖1 和圖2 所示。

噴吹法氦質(zhì)譜真空檢漏

         一個以一定速度移動的噴槍通過噴咀將具有一定壓力的氦氣(或混合氣) 噴向被檢容器的可疑部位, 如果氦氣通過漏孔進入被檢容器后, 進入質(zhì)譜室, 產(chǎn)生訊號, 可檢示漏孔的存在, 對于判定漏孔的位置是很方便適用的。由于檢漏儀(系統(tǒng)) 有一定的響應時間, 檢漏儀指示有漏孔時, 漏孔不一定正好在噴槍的噴咀所對的位置, 通常, 在發(fā)現(xiàn)有漏的范圍內(nèi), 減小噴槍移動速度, 減小噴咀與被檢容器表面距離, 反復查找, 在噴咀正好對準漏孔, 噴槍不移動時, 檢漏儀指示的漏率可能等于或接近于漏孔實際漏率。噴吹法檢漏靈敏度受多種因素影響, 有時, 實際漏孔很大, 用噴吹法可能檢不出來或者指示的漏率很小。

         如所周知, 影響因素有: 漏孔的形狀, 噴咀相對漏孔的夾角, 噴咀相對漏孔的距離, 噴槍相對漏孔移動速度, 噴咀的形狀和尺寸, 噴射氣體壓力, 被檢容器的周圍環(huán)境大氣中氦氣本底(氦濃度) 的大小及穩(wěn)定情況, 這些因素很復雜,影響程度很難確定, 過去有人在這方面做過研究, 給出了應用這種方法的注意事項, 沒有得出具體的定量的結果。

 噴吹法的靈敏度

       噴吹法檢漏靈敏度可以用一支接在被檢容器上的經(jīng)過校準的真實漏孔進行校準, 如圖1所示。

圖1　氦質(zhì)譜檢漏的噴吹法

       極限靈敏度(即最小可檢漏率,MDL ) 可用噴咀對準漏孔長時間噴吹, 亦可在漏孔進氣端接一個氦氣源, 根據(jù)檢漏儀指示的穩(wěn)定值求得。在具體應用中, 因檢漏條件(噴槍相對漏孔的夾角, 噴尺寸, 噴咀相對漏孔的移動速度⋯⋯) 不同, 檢漏靈敏度(即, 最小可檢漏率) 差別較大,甚至于可能較極限靈敏度低102 倍。

氦罩積分法

       氦罩積分法是用一個罩子將被檢件部分或全部罩起來, 在罩內(nèi)充入氦氣,

圖2　氦質(zhì)譜檢漏的氦罩法

         不難理解氦罩可以看成是一個口徑很大的噴咀, 包圍了被檢件或被檢件的一部分, 檢漏儀指示的漏率是氦罩包圍的被檢件(或被檢件的部分) 的所有漏孔的漏率總和。氦罩法靈敏度校準可用一支帶有閥門的校準漏孔, 在被檢件不加氦罩情況下進行。