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醫用鍛造CoCrMo合金高溫滲碳性能研究

文章采用高溫氣體滲碳技術，對醫用鍛造鈷鉻鉬合金進行高溫滲碳處理，對其滲碳前后的組織結構、摩擦性能及潤濕性能進行分析。

液態金屬離子源在航天器電位主動控制的應用

著重介紹了液態金屬離子源型電位主動控制在低密度等離子體空間測量中的典型應用，對以后的空間環境探測中自主研發液態金屬離子源主動控制裝置以及航天器設計提供借鑒和依據。

航天薄膜材料力學性能評價及誤差分析研究

通過理論分析與試驗研究，從薄膜材料、樣品加工、拉伸試驗及模擬試驗四個角度，對空間環境下薄膜材料力學性能退化試驗的誤差來源及影響進行了研究。

電場儀球形傳感器涂覆方案研究

電場儀涂層的均勻性是影響其電場測量精度的重要因素，手工噴涂方案難以滿足涂層的均勻性需求，且工藝不穩定。為解決電場儀球形傳感器涂層噴涂的均勻性問題，提出了一種新的噴涂方案。

不同氫濃度對超納米金剛石膜結構及耐磨性影響的研究

微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)法在碳纖維上制備碳納米管

利用微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)法在碳纖維上制備了碳納米管，并在此基礎上系統地研究了微波功率、反應時間、催化劑前驅體的吸附時間以及吸附濃度對碳納米管生長的影響。

內熱式多級連續真空爐爐溫均勻性的測定及改善

本文根據有限元法分析真空爐溫場分布規律，對內熱式多級連續真空爐冷凝罩內物料分離段安裝雙鉑銠高溫熱電偶測量爐內溫度。

MPCVD金剛石膜沉積技術及金剛石膜材料在微波電真空器件中的應用

本文將首先簡述MPCVD方法沉積金剛石膜的原理，進而介紹國內外MPCVD金剛石膜沉積技術的發展現狀以及MPCVD方法在制備高品質金剛石膜材料方面的應用情況。

低真空脈沖離子氮化工藝試驗

本文就低真空脈沖離子氮化這種新設備、新技術進行了工藝試驗。

工程型高溫度梯度單晶爐研制

介紹了新型工程型高溫度梯度單晶爐研制開發的項目背景，主要研發內容及技術指標，創新性和達到的技術水平，產品采標，應用領域及應用情況，產品經濟和社會效益情況。

真空電渣爐的發展策略

本文將分析真空電渣爐發展緩慢的原因、找出其問題并給出相應的發展方向和策略。

離子鍍膜技術的進展

本文介紹了離子鍍膜技術的意義、各種鍍膜技術的原理、特點、發展和應用范圍。

TiO2薄膜光電導與光催化性能關系的研究

采用溶膠-凝膠法在石英基板上旋涂制備不同系列的TiO2薄膜樣品(摻F濃度、保溫時間、薄膜厚度、晶型) ，并用X射線衍射等分析測試手段對樣品的結構等性能進行表征。

Sol-gel法制備Co-Mn共摻雜ZnO粉體和紅外發射率的研究

采用溶膠-凝膠法制備不同Co-Mn共摻雜濃度的ZnO前驅體，并在不同溫度下對其進行煅燒。

無硫化過程磁控濺射制備Cu2ZnSnS4薄膜及其結構和光學性質研究

使用Cu2ZnSnS4(CZTS) 靶材，通過射頻磁控濺射方法鍍膜，不經后期硫化處理，在鈉鈣玻璃襯底上沉積了鋅黃錫礦結構的CZTS薄膜材料。

硼硅玻璃表面沉積TiAlN/SiN薄膜的結構及性能

采用連續式磁控濺射技術在硼硅玻璃表面沉積了TiAlN/SiN復合薄膜。

溶膠-凝膠法制備柱狀TiO2薄膜及其光催化性能研究

在石英基板上用溶膠-凝膠法旋涂制備單層厚度約為20 nm 的柱狀晶形貌TiO2薄膜，并研究了退火溫度對TiO2薄膜晶體結構、微觀形貌、光催化活性能的影響規律。

PLD制備CuAlO2薄膜的結構與性能研究

本文以致密的CuAlO2陶瓷為靶材，采用脈沖激光沉積技術在藍寶石和石英襯底上制備CuAlO2薄膜，并對樣品進行退火處理，研究退火條件對薄膜結構和性能的影響。

沖擊載荷作用下金屬薄膜缺陷的多尺度分析

應用多尺度方法對帶有表面缺陷的膜-基結構進行模擬研究，旨在多角度地揭示金屬薄膜失效機理。

氫化處理對Li-W共摻雜ZnO薄膜性能的影響

本論文主要通過對比討論了Li-W 共摻雜( LWZO) 薄膜及LWZO：H 薄膜的結晶性能、表面形貌、光學性能的影響以及分析了氫化處理對LWZO薄膜的摻雜效率的影響。