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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

真空熱處理爐瞬態傳熱過程的數值模擬計算

本文將建立一個真空熱處理爐的三維有限元模型，并通過ANSYS 軟件對真空熱處理爐的輻射傳熱熱過程進行數值模擬。
氧分壓影響中頻磁控濺射沉積SiO2薄膜光學性能研究

本文采用中頻反應磁控濺射法制備SiO2 薄膜并對其性能進行了研究。對于氧分壓影響薄膜結構和性能的機制進行了深入的分析。
正交電磁場離子源及其在PVD 法制備硬質涂層中的應用

本文介紹幾種不同類型的正交電磁場離子源，并結合其在不同體系硬質涂層沉積過程中的應用，綜述離子源的結構、工作原理;分析其產生的離子束對硬質涂層成分、結構、性能的影響。
真空碳熱還原煉鎂的研究

本文系統闡述了近20年真空冶金國家工程實驗室在真空碳熱還原煉鎂方面所取得的研究進展。
新一代太陽能集熱板真空鍍膜生產線系統的開發

采用連續式太陽能集熱板真空鍍膜生產方式，以提高集熱膜層在大氣中使用的耐候性能及集熱性能為目的的膜層、膜系研究和設備結構的研制，是當前太陽能集熱器光譜選擇性吸收膜層研究、生產和發展的主要方向。
低壓滲碳工藝在減小齒輪變形方面的應用

低壓滲碳工藝已經被證明是可靠的，尤其對于減小熱后不需要磨削加工的成型齒輪的變形，以及提高各種零件的疲勞特性是很顯著的。
低壓真空滲碳設備的應用范圍與優點

本文講述了低壓真空滲碳設備的應用范圍與優點。
低壓真空滲碳爐的發展與工藝特點

針對相應的齒輪低壓真空淬火、齒輪低壓真空滲碳、高壓氣淬等較為先進的熱處理技術，其工藝和裝備是關注的兩條主線。
低壓真空滲碳爐與傳統滲碳爐的主要優勢和特點比較

本文有關低壓真空滲碳爐與傳統滲碳爐的主要優勢和特點進行了比較。
真空熱處理發展之我見

我國的真空熱處理起步晚、發展快，我國的真空熱處理的發展還需要注意：應大力發展高壓氣淬爐、低真空高壓熱處理技術非常值得、開發適應高速鋼熱處理的高壓氣淬爐等。
對我國真空熱處理路線圖的一些看法和建議

美國在2004年發布了其熱處理路線圖，對美國2020年的熱處理技術發展提出了非常明確的目標。中國真空熱處理路線圖應是一個整體真空熱處理發展規劃。
CSNS/RCS二極陶瓷真空盒磁控濺射鍍TiN薄膜研究進展

為降低陶瓷表面的二次電子發射系數(SEY)，采用直流磁控濺射的方法，對二極陶瓷真空盒內壁鍍氮化鈦(TiN)薄膜工藝進行實驗研究。
大型太陽能級多晶硅提純用真空電子束熔煉爐的研制

介紹了真空電子束熔煉爐提純原理、主要技術參數、設備結構及特點。
冷坩堝真空感應熔煉設備進展

敘述了冷坩堝真空感應熔煉設備的發展現狀，對設備應用及其組成進行了簡要介紹。對冷坩堝感應加熱裝置的重要零部件進行了分析，同時介紹了鑄造裝置的四種結構形式。
磁控濺射靶磁場的有限元模擬分析

本文應用COMSOL軟件對JGP450C型磁控濺射鍍膜機的圓平面靶表面磁感應強度進行了模擬分析計算，得到了靶面水平磁感應強度較強、分布較均勻的磁鐵結構參數。
鉛銀合金真空分離的研究

本文利用真空蒸餾分離鉛銀合金，對鉛銀合金真空分離提供理論依據和基礎實驗參數，為實現冶金行業的可持續發展提供技術原型。
制備工藝對磁控濺射Mo-N薄膜微結構和性能的影響

本文采用射頻磁控濺射的方法，通過改變反應環境中的Mo 靶功率、氬氮比、負偏壓等制備一系列的Mo-N 薄膜，利用X 射線衍射儀、納米壓痕儀、掃描電子顯微鏡和摩擦磨損測試儀對其相結構、顯微硬度和摩擦性能進行研究。
真空碳熱還原分解硫酸鈣熱力學分析及實驗探究

本文提出對硫酸鈣進行真空碳熱還原分解研究，探究硫酸鈣在真空條件下碳熱還原分解熱力學條件，并實驗進行驗證，以期達到降低硫酸鈣分解能耗，合理利用工業廢石膏的目的。
粗鉛真空蒸餾脫除銅錫的研究

本文對粗鉛真空蒸餾分離銅錫并富集回收銀進行實驗研究，為粗鉛真空脫除銅錫提供理論依據和實驗可行性數據。
南瓜片微波真空干燥的數學模型

通過南瓜片微波真空干燥的數學模型的建立、模型系數的確定及模型的驗證，表達和預測南瓜片微波真空干燥過程中的水分變化規律。