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石英脫羥真空爐的機械設計研究

石英真空脫羥爐是金鹵燈用石英玻璃脫羥工藝的關鍵設備。分析了石英脫羥爐的核心部件加熱器、隔熱屏的設計思路，根據計算功率進行了加熱器的設計計算和校核;闡述了抽真空系統和快速冷卻系統的設計思路等。

真空蒸發制備CdSexTe1-x薄膜及其性能研究

按不同比例混合CdTe和CdSe兩種化合物，利用真空蒸發法在玻璃襯底上制備了CdSexTe1-x三元化合物薄膜，分別利用XRD、SEM、EDX、XPS、紫外-可見分光光度計對薄膜的物相結構、表面形貌、元素組成以及光學性能進行了測試

中間層類型對類金剛石涂層界面結合性能和抗磨損能力的影響

電子回旋共振波射頻濺射系統設計

本文以ECWR技術為背景，介紹了一種電子回旋共振波射頻濺射鍍膜系統的設計。

氟磷酸鈣和碳反應生成CaO、CO、CaF2 和PO(g)的熱力學計算

本文研究氟磷酸鈣提煉磷生成PO(g)過程中的壓力和溫度之間的熱力學關系。

復雜工件表面磁控濺射鍍膜均一化控制的研究

介紹了復雜型腔工件表面薄膜涂覆機理與技術特點。

基于PLC的磁控濺射溫度控制系統設計

本文以西門子S7-300可編程控制器(PLC)為控制核心，通過觸摸屏構成人機交換界面(HMI)，論述了磁控濺射溫度控制系統的性能特征與控制方法。

低地球軌道空間等離子體參數的試驗研究

本文采用微波電子回旋共振(ECR)等離子體源模擬了空間等離子體，運用靜電探針法獲取了等離子體的伏安特性曲線，并分析了氣流量和微波源功率對電子密度的影響，對模擬分析不同軌道高度空間等離子體對航天器電位影響有

大顆粒缺陷在電弧離子鍍所制備薄膜中的分布狀態研究

針對電弧離子鍍制備薄膜產生的大顆粒問題，本文主要研究了大顆粒在薄膜中的分布狀態。

HMX顆粒的氣相沉積包覆研究

本文通過真空氣相沉積技術，在HMX炸藥顆粒表面成功包覆了石蠟和paralene膜，并且在膜較薄情況下實現了包覆度100%。測試了HMX氣相包覆顆粒的機械感度和靜電火花感度。

Cu層濺射時間對兩種ZnO復合透明導電薄膜光電性能的影響

Er3+/Yb3+摻雜的ZnO薄膜光波導的特性研究

有機器件中低溫低損傷磁控濺射沉積透明導電薄膜技術的研究進展

索出一種低溫低損傷高速沉積性能優異透明導電薄膜的制備技術，是提高有機光電器件性能的關鍵。

真空碳熱還原煅白的熱力學分析

本文對煅白真空碳熱還原法制取鎂反應過程進行了熱力學分析，在系統壓力30～100Pa，還原溫度1573K條件下，C與MgO反應生成鎂蒸氣;溫度達到1667K時，C與CaO反應生成CaC2，在此溫度條件下，CaC2也可與MgO反應生成鎂蒸氣

鋁誘導晶化低溫制備多晶硅薄膜的機理研究

本文根據熱力學第二定律的Gibbs自由能描述，理論研究了AIC制備多晶硅薄膜的ALILE機理，同時結合理論研究和實驗結果理論計算了AIC制備多晶硅薄膜的激活能。

0Cr18Ni9Ti不銹鋼表面等離子滲鋯合金層的研究

利用輝光等離子滲金屬技術，在0Cr18Ni9Ti不銹鋼表面形成滲Zr合金層，探討了極間距、氣壓、保溫溫度、源-陰極電壓差、保溫時間對滲Zr合金層厚度的影響，進而優化工藝參數，并對合金層的金相組織、元素分布及物相組成

W含量對CrSiWN薄膜微觀結構、力學及摩擦性能的影響

采用射頻磁控濺射制備不同W含量的CrSiWN薄膜。利用X射線衍射、掃描電鏡、能量散射譜、納米壓痕儀和摩擦磨損實驗機對薄膜的相結構、形貌、成分和摩擦性能進行分析。

ZnO插層對超薄坡莫合金薄膜各向異性磁電阻的影響

本實驗以ZnO作為Ta(4nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)薄膜中Ta層和Ni81Fe19層界面處的納米氧化層，研究氧化層ZnO的插入對坡莫合金薄膜AMR的影響。

鈾上激光輔助化學氣相沉積鋁薄膜研究

為了防止金屬鈾的腐蝕，本文采用激光輔助化學氣相沉積在鈾上制備了鋁薄膜。

鍍膜技術對金屬薄膜性能與制備氫化物薄膜的影響

分析了熱蒸發、濺射和脈沖激光沉積三種鍍膜技術鍍金屬薄膜的性能特點。根據文獻報道數據，研究了三種鍍膜技術鍍金屬薄膜的成膜機理、晶格參數、膜力學性能的差別。